実験・開発向け装置
超薄膜研究・開発用固体ソースECRプラズマ成膜装置。 固体ソース ECR プラズマ成膜装置の基本機能のみを装備した装置ですので自動成膜装置にくらべて価格を抑えてあります。
薄膜研究にたずさわる方々からの強い要望にお応えするため、お求めやすい価格のAFTEX-2300を開発いたしました。低価格ながらマイクロ波分岐結合型ECRイオン源を搭載するとともに、 ロードロック機構、ターボ分子ポンプを装備した高性能機です。 酸化物、窒化物などの薄膜研究に最適な装置です。
10-30eVの低エネルギーに制御された高密度イオンの照射下で薄膜が成長するため、原子レベルの平滑性で緻密・高品質な薄膜が形成されます。10MV/cmの極限的な耐圧を示すSiO2膜のほか、ダイヤモンド並みに硬く、水分の遮断性に優れたSi3N4、水素バリア性の高いAI2O3などが得られます。
イオンアシスト効果により、高温の加熱を行うことなく酸化膜、窒化膜などの化合物薄膜を形成できるほか、低温で高い結晶性薄膜を得ることも可能です。また、イオンエネルギーが低いことから、基板に対して低損傷でソフトな清浄効果を期待できます。
スパッタターゲットが製作可能なあらゆる固体材料を原料とし、酸素や窒素などの導入ガスとの組み合わせにより、各種の化合物薄膜を容易に形成できます。例えば、固体ソースとしてSiを用いればSi、SiO2、Si3N4膜、AIを用いればAI2O3、AIN膜が形成されます。その他、Ta2O5、HfO2、ZrO2ほか、ITO、STO膜などの実績があります。
項目 | 仕様 |
---|---|
真空排気系 | 成膜室:TMP(450 l/s) ロードロック室:RP(250 l/min)TMP兼用n |
成膜室 | |
チャンバ寸法 | φ570x340mmm |
基板サイズ | φ4インチ |
基板加熱 | オプション |
ターゲット基板間距離 | 200mm |
ロードロック室 | |
搬送方式 | トランスファーロッド |
収納数 | 1枚 |
ECRプラズマ源 | |
数量 | 1式(μ波分岐結合型) |
プラズマチャンバ | φ150mm |
円筒ターゲット部 | φ100x40mm |
ガス導入系 | 2系統 |
制御電源 | マイクロ波電源2.45GHz、1kW:1式 コイル電源DC 1.5kW:2台 ターゲット電源:1台(RF13.56MHz) |
操作 | |
排気 | 自動 |
基板搬送 | 自動 |
成膜 | 自動 |
外形寸法 | 1.8×1m |
オプション | DCスパッタ 加熱基板 基板バイアス ガス導入1追加可 μ波オートチューナー |
性能 | |
真空 到達圧力 | 10¯5Pa台 |
成膜 膜厚分布 | φ3インチ±10% |
設置条件 | |
電力 | 3φ AC200V 20KVA |
冷却水 | 10 l/min 0.3MPa |
重量 | 1000kg |