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ECRプラズマ
成膜装置
ECRプラズマ成膜法は、低温、低ダメージで緻密、平滑、高品質薄膜を形成できる成膜方法です。現代の電子部品の生産工程において欠かすことのできない先進テクノロジーです。
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原子層
堆積装置
原子層堆積法はステップカバレッジ、膜厚制御性に優れており、高アスペクト比、複雑な三次元構造に原子レベルで膜厚制御された成膜が可能です。
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3つの
クオリティ
「成膜技術・成膜システムで社会に新しい価値を創造する」ことを理念とし、常に「装置開発・製造」、「テクニカルアドバイス」「アフターサービス」の3つのクオリティ向上に向けた取り組みを行っております。
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JSW-AFTY
について
1989年の創業以来、ECRプラズマ成膜技術をベースとして発展し、2014年4月より日本製鋼所のグループとして、新たに開発から製造販売アフターサービスまでを一貫して行っています。
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ニュース
2023年09月11日
「応用物理 JSAP EXPO Autumn 2023」出展のお知らせ
2023年02月22日
「応用物理 JSAP EXPO Spring 2023」出展のお知らせ
2022年11月10日
「SEMICON Japan 2022 出展のお知らせ」
2022年09月16日
「応用物理 JSAP EXPO Autumn 2022」出展のお知らせ
2022年08月05日
夏期休業期間のお知らせ
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TEL 042-632-8840
/
FAX 042-632-8841
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